安定成長期
フォトレジスト
参考文献等
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JSRマイクロ九州株式会社ホームページ（http://www.jmq.jsr.co.jp/products.html）
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青島矢一・高永才・久保田達也（2010）「日本電気： 最先端LSI量産を可能にしたArFレジスト材料の開発」一橋大学イノベーション研究センターIIRケーススタディ（http://pubs.iir.hit-u.ac.jp/admin/ja/pdfs/show/1164）、久保田達也・青島矢一・高永才（2013）「富士通株式会社： 最先端LSIを実現したArFエキシマレーザーリソグラフィ用新規レジスト材料の開発と実用化」一橋大学イノベーション研究センターIIRケーススタディ（http://pubs.iir.hit-u.ac.jp/admin/ja/pdfs/show/1669）
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みずほ銀行産業調査部「2014年度の日本産業動向（機能性化学）」（みずほ産業調査：2014）
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高橋一雄（2016）「露光装置技術発展の系統化調査」産業技術史資料情報センターウェブページ、かはく技術史大系、技術の系統化調査報告書（http://sts.kahaku.go.jp/diversity/document/system/pdf/022.pdf）
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東京応化工業株式会社編（2000）「東京応化６０年史」東京応化工業、４８頁
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東京応化工業株式会社編（前掲５）、４９頁
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それまでは密着型であったのが、新たな方式として汚れに強く歩留まりの良いミラープロジェクション型が求められるようになった。
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JSR総務・法務部社史担当 編纂（２００９）「技術の地平を拓く：JSR５０年の歩み」JSR１７９頁
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JSR総務・法務部社史担当 編纂（前掲８）２４６頁
その他参考文献
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電子情報技術産業協会・ICガイドブック編集委員会（2012年）「ICガイドブック よくわかる！半導体（2012年版）」産業タイムズ社。
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電子情報技術産業協会・ICガイドブック編集委員会（2012年）「ICガイドブック 未来を創る！半導体」産業タイムズ社。
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電子情報技術産業協会・ICガイドブック編集委員会（2012年）「ICガイドブック 半導体産業データ」産業タイムズ社。
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中馬宏之（2009年）「テクノロジーとマーケットの複雑性に挑むJSR：その大いなる変貌要因を探る」RIETI Discussion Paper Series、09-J-033。
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日経BP企画（2006年）「ICガイドブック」電子情報技術産業協会（JEITA）。
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福田直晃（2013年）「持続的競争優位性獲得のためのグローバルR&Dに関する一考察」神戸大学ワーキングペーパー。（mba.kobe-u.ac.jp/life/thesis/workingpaper/2013/wp2013-5b.pdf） ※現在リンク切れ
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吉田秀明（2008年）「半導体６０年と日本の半導体産業」大阪経済大学日本経済史研究所『経済史研究』第１１号。
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産業競争力懇談会ウェブページより、2011年、「半導体戦略プロジェクト 産業競争力強化のための先端研究開発」（http://www.cocn.jp/thema41-L.pdf）
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日本半導体歴史館ウェブページ（http://www.shmj.or.jp/index.html）
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フローディア・ウェブページ（http://floadia.com/column.html）
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semiウェブページ（http://www.semi.org/jp/node/17346）
