薄膜コーティングの手段として、一般的にマグネトロンスパッタリング法が使われていますが、グロー放電を利用していることから、基板に入射するイオン量が少なく、反応性窒化膜を高速で成膜することができませんでした。本発明では高密度プラズマが得られる熱陰極アーク放電に着目し、スパッタされた粒子を熱電子衝撃により電離させることで、入射イオン量を一桁アップさせて、緻密で硬い反応性窒化膜を工業的な成膜速度で生産できるようにしました。

　スパッタ粒子をイオン化させるための熱電子源は、線径１㎜、長さ８００㎜のタングステンフィラメントを使用しています。本フィラメントを２０００℃以上に加熱し、これに負の電圧を印加して熱電子を放出させるのですが、熱膨張により１０㎜近くも延び、その結果、フィラメントの変形、揺れや地絡が度々起こっていました。フィラメントが延びても変形しないよう、片側が可動するような構造および左右の揺れが防止できるような制限機構の設計開発に苦労しました。

　この度は特許庁長官賞に選出して頂き、誠にありがとうございます。本発明はお客様が要望された案件を当社の技術でなんとか具現化できないか、お客様の喜ぶお顔を想像しながら検討を重ねた末、成しえたものです。当社の企業理念に「新しい技術に携わることを誇りとし・・・」とありますが、このような機会に恵まれたことに感謝し、これからもお客様に喜ばれる「ものづくり」によって社会に貢献してまいりたいと思います。